به تازگی ، West Lake Instrument به طور رسمی فناوری سلب لیزر با راندمان بالا را برای الماس های تک کریستالی با اندازه بزرگ منتشر کرد ، و دستیابی به پیشرفت های متعدد در شاخص های فنی کلیدی مانند راندمان فرآیند ، کنترل از دست دادن مواد و پایداری پردازش ، فراهم کردن پشتیبانی تجهیزات اصلی برای کاربرد صنعتی الماس ، "ماده نیمه هادی نهایی" ، نشان می دهد که منجر به ایجاد مرحله جدید در تولیدات جدید است.
فن آوری سلب لیزر که توسط West Lake Instrument منتشر شده است این بار از یک سیستم لیزر پیشرفته Femtosecond برای تمرکز روی داخل کریستال الماس برای تشکیل یک لایه اصلاح گرافیت قابل کنترل استفاده می کند و از طریق روش های بازپخت یا الکتروشیمیایی ، به طور قابل توجهی ضرر را کاهش می دهد و چرخه های پردازش را کوتاه می کند. با استفاده از کریستال 1- اینچ به عنوان نمونه ، این فناوری در مقایسه با برش لیزر سنتی ، دارای یک ترتیب پیشرفت در بهره وری و عملکرد است و اندازه سازگار می تواند به 14 اینچ برسد ، با بزرگنمایی خوب و سازگاری تولید انبوه.
در سطح فناوری فرآیند ، West Lake Instrument بر روی جهت های برش مانند پردازش لیزر Femtosecond ، پردازش میکرو نانوساختار یخ زده و تجزیه و تحلیل طیفی میکروسکوپی چند منظوره تمرکز دارد و همچنان به ترویج "مواد فوق العاده + لیزر لیزر فوق العاده" می پردازد. فرآیند سلب لیزر Femtosecond که توسط آن ساخته شده است نه تنها برای مواد الماس کاربردی است ، بلکه می تواند به مواد نیمه هادی نسل سوم/نسل چهارم مانند کاربید سیلیکون ، نیترید گالیم و یاقوتیر نیز گسترش یابد ، با سازگاری گسترده مواد و پتانسیل کاربرد صنعت.
علاوه بر این ، ویژگی های پردازش غیر حرارتی این فناوری به طور قابل توجهی آسیب ساختار کریستال و تجمع استرس سطح را کاهش می دهد ، و می تواند بدون از بین بردن یکپارچگی کریستال ، که برای زمینه های سطح بالا مانند دستگاه های با قدرت بالا و دستگاه های ماوراء بنفش عمیق مناسب است ، به ساخت و سازهای ریزساختار با دقت بالا برسد.
