روش های تمیز کردن سنتی و حذف مواد از قبیل پردازش شیمیایی و ساینده، به پایان رسیدن محدودیت توانایی خود می رسند؛ زیرا آنها به لحاظ فنی و زیست محیطی برای تمیز کردن نیازهای سختگیرانه که تبدیل به تولید محصول با ارزش می شوند استاندارد می شوند.
برای سه دهه گذشته، فرآیند تمیز کردن لیزر برای طیف وسیعی از کاربردهای تولیدی انجام شده است و در ساخت مدرن تاثیر می گذارد. علیرغم شایستگی های شناخته شده فرآیند در صنایع تولیدی به طور کلی، برخی از جنبه های منفی شامل هزینه های بالای سرمایه، بهره وری پایین و برخی مسائل فنی نظیر تمیز کردن یا بیش از حد (به علت حساسیت تمیز کردن لیزر) به پارامترهای فرآیند یا ضخامت / ترکیب آلودگی). انتظار می رود که پیشرفت های اخیر در لیزرهای پالس نانوسیستم و پیکسایکون با قدرت بالا به طور قابل توجهی بهبود روند زمان تولید و پرداخت هزینه های بالا با فرآیند تمیز کردن لیزر. بخش قابل توجهی از تحقیقات پردازش لیزری در حال حاضر به سمت توسعه سیستم های نظارت درون فرایند و کنترل حلقه بسته پردازش مواد لیزری هدایت می شود که باید به مسئله حساسیت پاکسازی لیزر به پارامترهای لیزر و تغییرات در آلودگی نیز توجه کند. با پیشرفت های اخیر در فن آوری های لیزر، انتظار می رود که تمیز کردن لیزر تبدیل به فرایند اصلی در صنایع تولید شود.
